7月24日消息，据报道，俄罗斯正与白俄罗斯Planar公司合作开发九套芯片生产设备，覆盖光掩模制造和光刻工艺关键环节。
据介绍，九套设备涵盖光掩模图案制作、缺陷监测、拓扑控制和激光修正等全流程。核心进展包括已交付的两套设备：适用于90至65nm工艺的光掩模图像生成器已于2025年交付。同标准的拓扑控制单元已经完成开发交付。
接下来，2026年下半年计划安装三套系统，包括定位标记转移装置、拓扑坐标监测系统和激光缺陷去除装置。半色调遮罩涂层监测系统则计划于2027年安装，届时将补齐光掩模生产链的大部分缺口。
在具体分工方面，白俄罗斯Planar公司负责工程和生产工作，俄方扮演客户和出资方角色。Planar是后苏联地区重要的微电子设备制造商，专注于光刻系统和晶圆控制测量设备，技术储备可追溯至苏联时期。
该联合项目已获得超过2400亿卢布的预算拨款，约合人民币208亿元，目标到2030年取代微电子领域约70%的进口设备和材料。
西方制裁切断了俄罗斯获取先进芯片设备的渠道，迫使俄方寻找替代方案，与Planar的合作被视为填补生产链缺口的重要举措。
有专家认为，未来几年可能看到完全由俄罗斯公司开发的光刻系统。但俄罗斯在先进制程领域与台积电、三星等国际领先水平仍有较大差距。
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